Прецизионная диагностика многослойных тонкопленочных структур с субнанометровым разрешением в широком спектральном диапазоне; Высокая точность измерений; Высокая производительность измерений; Измерения толщин тонких пленок, оптических параметров тонкопленочных структур и спектральных зависимостей оптических констант материалов всех типов: металлов, полупроводников, диэлектриков, полимеров, жидкостей и др. (в том числе анизотропных).

Комплекс обеспечивает:

• измерения параметров многослойной структуры (до 6 слоев);
• определение параметров n и k и толщин всех слоев в рабочем спектальном диапазоне;
• автоматический подбор параметров образца для фиттинга измереных спектров.

Комплект поставки:

• Спектральный эллипсометр
• Гониометр с фиксированным изменением угла падения
• Матричная система позиционирования образца
• Предметный столик с подвижками
• Источник излучения
• Оптоволоконный адаптер
• Малогабаритный быстродействующий дифракционный монохроматор
• Персональный компьютер
• 19" LCD монитор

Технические параметры
Спектральный диапазон, нм	350 - 1000 нм
Спектральное разрешение	2,0 нм
Диапазон измеряемых толщин	до 50000 нм
Погрешность измерения толщин	0,2 нм
Погрешность измерения коэффициента преломления	0,005
Время единичного измерения:	1мс/точка
Изменение углов падения	45°-70 ° и 90°
Пределы перемещения предметного столика по двум координатам	0-25 мм
вертикальное перемещение	0-20 мм
Диаметр светового пучка	3 мм