Ионный микроскоп V400ACE объединяет в себе последние разработки в проектировании ионной колонны, подачи газа и точечного позиционирования для обеспечения быстрого, эффективного, экономичного производства интегральных схем. Система позволяет производителям полупроводниковых схем развести проводящие дорожки и протестировать работу измененных схем в течение считанных часов, а не недель или месяцев, которые потребуются для создания новых масок и обработки новых пластин традиционными методами.

Ионная колонна Tomahawk обеспечивает непревзойденные возможности при непрерывной работе в диапазоне ускоряющего напряжения от 30 кВ до 0,5 кВ. Высокая плотность тока при травлении при ускоряющем напряжении 30 кВ обеспечивает быстрое удаление материала и увеличение пропускной способности, в то время как работа при низком напряжении используется для селективного травления меди.

Области применения: микроэлектроника, нанотехнологии.

Основные преимущества:

• Система подачи газа NanoChemix обеспечивает повышенную скорость, гибкость, однородность и качество удаления материала и его осаждения
• Ионная колонна Tomahawk обеспечивает больший ток на меньшую площадь поверхности для более быстрого и точного травления
• Лучшая в своем классе система подготовки тонких образцов для 3D исследования и анализа
• Разрешение изображения 4,5 нм при ускоряющем напряжении 0,5 кВ - 30 кВ

Технические характеристики