Характеристики и описание
- Производитель
- Страна производительСША
- СостояниеНовое
Описание
Двухлучевая система Helios Nanolab позволяет выйти на новый уровень получения двух- и трехмерных изображений изучаемых объектов и их анализа, создания нанопрототипов и подготовки образцов. Технология Elstar™ FESEM обеспечивает наилучшую детализацию в нанометровом диапазоне. В двухлучевой системе также реализована новейшая разработка компании FEI— ионная колонна Tomahawk™ FIB. Эффективность колонны Tomahawk в условиях низкого напряжения достаточно велика для того, чтобы получать тонкие образцы высочайшего качества для исследования на просвечивающем электронном микроскопе или атомно-силовом микроскопе. В устройстве предусмотрена тройная система детектирования внутри колонны и режим иммерсии, которые могут использоваться одновременно для формирования изображений во вторичных и обратно отражённых электронах.
Области применения: материаловедение, естественные науки, биотехнологии, нанотехнологии.
Основные преимущества
- Самое быстрое получение информации нанометрового масштаба благодаря использованию лучшей среди аналогов колонны СЭМ высокого раз- решения Elstar, стабильности и автоматизации
- Возможность установки новой плазменной пушки с источником ионов ксенона Xe+, обладающей повышенным током зонда - до 1300 нА, что позволяет вытравливать огромные области материала за короткий промежуток времени с большой точностью (по сравнению с обычным источником ионов Ga+).
- Улучшенная контрастность при беззарядном получении изображений за счёт шести детекторов, расположенных в колонне и под линзой
- Возможность получения изображений высокого разрешения при различных увеличениях, трехмерных изображений и проведения исследований при повешенной температуре
- Быстрое и точное травление и осаждение самых неоднородных и сложных структур размером меньше 10 нм
- Работа с образцами для решения конкретной задачи, благодаря возможностям столика с пьезо-приводом (перемещения в горизонтальной плоскости 110 и 150 мм)
- Распознавание самых мелких деталей благодаря использованию монохроматора (UC) и его работе при низких энергиях пучка на субнанометровом уровне
Технические характеристики:
|
Характеристика |
Значение |
Характеристика |
Значение |
|
Электронная оптика |
Автоэмиссионная пушка Шоттки с монохроматором |
Столик: |
|
|
- Тип |
5-осевой предметный столик сверхвысокой точности с электрическим приводом |
||
|
Тип электронной колонны |
Колонна Elstar с иммерсионной линзой сверхвысокого разрешения |
||
|
- Ход по осям X и Y |
150 мм, пьезопривод |
||
|
Диапазон тока пучка |
от 1 пА до 400 нA |
||
|
- Воспроизводимость результатов по осям X и Y |
1,0 мкм |
||
|
Разрешение в электронах |
- 0,6 нм при 30 кВ (STEM)* - 0,6 нм от 15 кВ до 2 кВ - 0,7 нм при 1 кВ - 1,0 нм при 500 В (ICD)* |
||
|
- Ход по оси Z |
10 мм, электропривод |
||
|
Ионная оптика |
Источник ионов на базе жидкого галлия или ксенона для применения в высоком вакууме |
||
|
- Поворот |
n x 360°, пьезопривод |
||
|
- Наклон |
от –10° до +60° |
||
|
Ток зонда Ga+ |
от 0,6 пА до 65 нA |
Максимальный зазор между столиком и точкой схождения |
55 мм |
|
Ток зонда Xe+ |
от 1,5 пА до 1300 нА |
||
|
Разрешение в ионах в точке пересечения с электронным пучком |
- 4,0 нм при 30 кВ— оптималь- ный статистический метод; - 2,5 нм при 30 кВ— селектив- ный граничный метод |
||
|
Максимальный вес образца |
макс. 500 г (включая держатель) |
||
|
Максимальный размер образца |
150 мм при полном вращении (для образцов большего размера вращение ограничено) |
||
|
Ускоряющее напряжение |
Электроны— 20 В – 30 кВ Ионы— 500 В – 30 кВ |
||
Доставка
Оплата и гарантии