Самый универсальный высокопроизводительный сканирующий электронный микроскоп!

Комбинированная линза Apreo позволяет получать беспрецедентное разрешение и материальный (Z) контраст за счет сочетания электростатической и магнитной иммерсионной технологий.

Apreo это высокопроизводительная платформа для исследования наночастиц, катализаторов, порошков и наноустройств, в том числе, для работы с магнитными образцами. Традиционные сканирующие электронные микроскопы высокого разрешения обладают либо электростатическими линзами, либо с магнитной иммерсией. Впервые FEI объединяет оба способа в одном инструменте. Преимущества данной компоновки выходят далеко за рамки производительности любой другой колонны. И тот и другой метод служит для формирования пучка в тонкий зонд для получения изображения при низких ускоряющих напряжениях и направления детектируемых электронов обратно через линзу в колонну. За счет комбинации магнитной и электростатической иммерсии в одной электронной пушке достигается более высокая разрешающая способность и добавляются уникальные возможности для фильтрации сигнала. Комбинированная электростатически-магнитная конечная линза обеспечивает разрешение 1,0 нм при 1 кВ (без активации функции замедления пучка или монохроматора).

Основные преимущества: 

• Уникальная комбинированная конечная линза обеспечивает исключительную разрешающую способность 1 
  нм на 1 кВб без необходимости использования торможения пучка – на любом образце, даже если он наклонен или
  имеет развитую поверхность.
• Производительный детектор обратно отраженных электронов гарантирует великолепный материальный
  контраст, даже на низких ускоряющих напряжениях и силах тока – на любом угле наклона – даже на
  чувствительных к электронному пучку образцах и на телевизионной развертке.
• Беспрецедентная гибкость выбора режимов работы детектора позволяет пользователю получать контраст или
  интенсивность сигнала путем объединения информации из отдельных сегментов детектора.
• Самый широкий спектр способов снижения зарядки поверхности, включая режим низкого вакуума с давлением
  внутри камеры до 500 Па, что позволяет получать изображение с любого образца.
• Превосходная аналитическая платформа обеспечивает высокие токи пучка и малый размер пятна. Камера
  позволяет устанавливать одновременно до трех EDS детекторов, копланарность EDS и EBSD детекторов и
  оптимизированный для аналитики режим низкого вакуума.