Описание

Системы серии EVG 620NT и 6200NT - современные системы совмещения и экспонирования. Предназначены для работы с пластинами и подложками размерами от 5 мм до 150 мм и от 75 мм до 200 мм

Системы предлагают передовые конструкторские решения:

• Модульная конструкция позволяет легко изменять функционал системы и расширять возможности от лабораторной системы, до системы для серийного производства, от ручной до полностью автоматической системы

• Совмещение по двум сторонам пластины, возможно совмещение с применением инфракрасного излучения

• Оптика высокого разрешения

• Механизмы компенсации разнотолщинности пластин (клиновидности)

• Защита от вибраций

• Линейные приводы

• Гранитное основание

Особенности системы:

• Толщины пластин и подложек 0,1 -10 мм Размеры масок 7x7 дюймов для EVG620NT и 9x9 дюймов для EVG6200NT

• Точность совмещения: по верхней стороне ±0,5 при За, по нижней стороне ±1,0 при За

• Разрешение системы <0,8 мкм при вакуумном контакте

• Совмещение пластин для последующей сварки (опция)

• Автоматическая система компенсации клиновидности пластины

• Платформа для решений в области УФ-наноимпринтной фотолитографии

• Экспонирование при мягком, жестком и вакуумном контакте, а так же экспонирование с микрозазором

• Длины волн экспонирования: i-, д-, h-линия, DUV

• Ручной и автоматический режимы эксплуатации

• Встроенная система документирования техпроцесса и ошибок, различные уровни доступа.