Обнаружение, анализ и классификация дефектов имеют жизненно важное значение в производстве полупроводников при проверке и контроле качества отдельных этапов производственного процесса. Уменьшение размеров элементов и переход на 3D-устройства вызывают необходимость в более полной и точной визуализации.

Изображения дефектов с высоким разрешением необходимы для определения их характера, анализа их состава и изучения первопричин и, в конечном итоге для того, чтобы производители могли устанавливать статистический контроль процессов, быстро наращивать производство и добиваться стабильно высоких производственных результатов.

Разработанная для технологий 1-нм и более, Applied SEMVision G6 ‒ это усовершенствованная Purity ™ Automatic Defect Classification (ADC).Она является самой передовой системой из линейки систем обнаружения и анализа дефектов SEMVision, которые были лидерами на протяжении последних 15 лет благодаря своей точности, полноты анализа и скорости работы‒ жизненно важных аспектов при изготовлении полупроводников. Система предлагает высококачественную визуализацию и лучший в своем классе функционал для классификации дефектов.

Разрешение системы SEMVision G6 на 30% выше, чем в системах предыдущего поколении, что делает ее максимально соответствующей требованиямв отрасли на данный момент. Возможности наклона луча позволяет видеть дефекты на боковых стенках и в материале основы3D устройств, таких, как плавниковые транзисторы (FinFET). Большой динамический диапазон обнаружения и захват обратно рассеянных электронов в сочетании с фильтрацией энергии обеспечивают изображения с высоким аспектным соотношения углублений и отверстий. Высокоэнергетическое изображение позволяет обнаруживать дефекты в нижележащих слоях. Передовая система обнаружения и высокотехнологичная система обработки позволяют получать высококачественные топографические изображения мелких и неглубоких дефектов. В дополнение к высокому разрешению и качественному изображению, SEMVision G6 обеспечивает быстрое обнаружение и анализ дефектов, доступных благодаря быстрой навигации, нанометровой точности, новому алгоритму автоматического анализа дефектов, который повышает скорость захвата и автоматически фильтрует «ненужные» дефекты.

Purity ADC позволяет производителям впервые использовать систему автоматического просмотра для правильного определения дефектов, ограничивающих производительность в производственной среде. Ранее классификация была полностью ручным процессом. Система ADC предлагает значительно лучшее качество и согласованность классификации с помощью современных алгоритмов машинного обучения, которые динамически «изучают» многочисленные классы дефектов в современных сложных производственных процессах и механизмы статистической классификации, которые обеспечивают точность и повторяемость классификации. Автоматическая классификация также позволяет производить более всестороннюю выборку, более быструю идентификацию отклонений за максимально короткое время для принятия решений «дефект или нет». Всё вместе это приводит к сокращению времени цикла и повышению производительности, что особенно важно для крупных производств.