Описание:

 

Установки серии VM-1200/1300 представляют собой экономичный настольный вариант системы спектроскопического измерения толщины пленки. Серия включает в себя широкий ряд моделей  с такими опциями, как автоматизированный столик и УФ-подсветка, что позволяет пользователю подобрать устройство для конкретных целей.

Модели серии VM-1200/1300 подходят для тех же областей применения, что  и VM-2200/3200, имеют доступную цену и могут использоваться для высокоточных измерений. Кроме того,системы данной серии совместимы с интерфейсом SECS и уже используются на многих производственных линиях.

 

Функции

• Позволяет проводить измерения с отличной воспроизводимостью благодаря голографической дифракционной решетке и одномерному ПЗС-датчику, который может проанализировать более 2 000 точек отбора в полном диапазоне длин волн в видимом диапазоне спектра.
• Простота эксплуатации благодаря функции мастера рецептов. 
• Широкий набор функций обработки данных измерений, включая трехмерное картирование, компенсацию данных толщины пленки, гистограммное отображение и ряд других  статистических инструментов.
• Автоматизированный столик с автофокусом.
• Стандартная настройка с возможностью измерения толщины и спектральной отражательной способности 25 видов плёнок. Широкий выбор программ для измерения пленок других типов.
• Одновременное многоуровневое измерение 4 слоев пленки.

 

Характеристики:

Размеры пластин:

• ⌀50 мм,
• ⌀75 мм,
• ⌀100 мм,
• ⌀125 мм,
• ⌀150 мм,
• ⌀200 мм,
• ⌀300 мм

 

Возможности:

• Измерение до 25 типов слоев пленок (29 для моделей с УФ-подсветкой)
• Измерение спектральной отражательной способности
• Регистрация типов пленок
• Трехмерное картирование измеренных данных и другой статистической информации
• Одновременное многоуровневое измерение (до 4 слоев)
• Расчет скорости травления

 

VM-1210/VM-1310

Размер пятна  

• ø20 мкм (объектив с 5-кратным увеличением)
• ø10 мкм (объектив с 10-кратным увеличением) 
• ø5 мкм (объектив с 20-кратным увеличением)                              
• ø2 мкм (объектив с 50-кратным увеличением) (опция)

Диапазон измерения 

• от 10 нм до 20 мкм (при измерении SIO2 на Si с помощью объектива с 10-кратным увеличением)

Время измерения        

• 1 сек. или меньше (при измерении SIO2 на Si с помощью объектива с 10-кратным увеличением)

Воспроизводимость (ð)            

• 0,1 нм (толщина пленки: от 10 нм до 3 000 нм)                       
• 0,03 % (толщина пленки: от 10 нм до 10 мкм)                                             
• 0,2 % (толщина пленки: от 3 мкм до 20 мкм; метод P&V)

 

VM-1230/VM-1330

Размер пятна  

• ø 13.4 мкм (объектив с 15-кратным увеличением)            
• ø 4 мкм (объектив с 50-кратным увеличением) (опция)

Диапазон измерения 

• от 2 нм до 20 мкм (при измерении SIO2 на Si с помощью объектива с 15-кратным увеличением)

Время измерения        

• 1 сек. или меньше (при измерении SIO2 на Si с помощью объектива с 15-кратным увеличением)

Воспроизводимость (ð)            

• 0,1 нм (толщина пленки: от 5 нм до 3 000 нм)                           
• 0,03 %  (толщина пленки: от 10 нм до 10 мкм)                              
• 0,2 % (толщина пленки: от 3 мкм до 20 мкм;  метод P&V)