Система SUSS RCD8 является первым устройством, которое можно трансформироваться из системы нанесения с запатентованной технологией GYRSET® в модуль проявления со спреевым нанесением в течение нескольких минут.
Платформа нанесения и проявления резиста RCD8 может быть собрана из различных элементов: от базового модуля нанесения с ручным управлением до полуавтоматической установки с технологией GYRSET® и системой проявления наливом или спреем, поэтому подходит как для ежедневной научно-исследовательской работы, так и для мелкосерийного производства.
При необходимости данную универсальную систему можно модернизировать прямо на месте дополнительными опциями, которые будут идеально соответствовать вашим потребностям.
Благодаря широкому выбору держателей и конфигураций установка RCD8 позволяет проявлять и наносить покрытие на подложки практически любой формы и из любого материала. Платформа может быть оборудована различными вариантами линий распыления и насосов для работы с резистом вязкостью от <1 сПз до более 55 000 сПз.
Решения RCD8 |
|
Характеристики и преимущества |
|
Опции |
|
Уникальная технология GYRSET
Программное обеспечение
Стандартное ПО, установленное на платформе RCD8 многократно проверено в производственных условиях и установлено на сотнях систем компании SUSS по всему миру. Управляющее ПО на базе Windows установлено на всех автоматизированных системах нанесения фоторезиста компании SUSS, что обеспечивает идеальную заменяемость систем. Графический интерфейс пользователя с сенсорной панелью контролирует работу и статус всей установки и резервуаров. Интуитивно понятные программы обеспечивают простоту и легкость эксплуатации. Создание рецептов максимально упрощено и происходит по принципу «указать и выбрать».
Общее |
|
Размер подложки |
2" - 8" круглые, 2" - 6" квадратные |
Перемещение |
ручное, опционно: подъемные штифты |
Интерфейс |
SUSS MMC Tool Control на базе Windows 7, промышленный ПК с сенсорным экраном |
Макс. кол-во рецептов |
не ограничено |
Макс. кол-во шагов |
50 |
Коммуникации |
400 В 16 A, 50 Гц, вакуум не требуется, производится N2 или сухим сжатым воздухом |
Модуль нанесения: открытая чаша |
|
Макс. скорость вращения |
10 000 об/мин* ± 1 об/мин (с защитным колпаком), 12 000 об/мин по запросу |
Ускорение |
1 – 7 000 об/мин/с* |
Модуль нанесения: GYRSET |
|
Макс. скорость вращения |
3 000 об/мин * ± 1 об/мин с технологией GYRSET |
Ускорение |
1 – 3 000 об/мин/с* |
Модуль проявления: полив |
|
Слив |
отдельное подключение слива |
Материал чаши |
полиэтилен |
Сопла |
дополнительная рука с 3 линиями (+ 3 линии на отдельном держателе) |
Модуль проявления: спрей |
|
Слив |
отдельное подключение слива |
Материал чаши |
полиэтилен |
Сопла |
до 3 в центре + до 2 сбоку (опции: промывка деионизированной водой, продувка азотом) |
Модуль: нагревательная плита (HP8) |
|
Контроллер |
MMC Tool Control системы RCD8 или опционно отдельный контроллер |
Диапазон темп. |
60 - 250 °C (± 0.5 °C < 120 °C; ± 1 % 120 °C) |
Опции |
спекание с зазором, продувка азотом |
Модуль: охлаждающая плита (CP8) |
|
Контроллер |
MMC Tool Control системы RCD8 или опционно отдельный контроллер |
Макс. темп. |
20 - 25 °C; ± 1 °C |
* зависит от подложки и держателя