Описание:

Электронно-литографическая приставка для растрового электронно-лучевого или ионно-лучевого микроскопа - универсальное бюджетное решение, позволяющее оборудовать РЭМ базовыми возможностями электронно-лучевой литографии (дизайн паттернов, работа с параметрами экспонирования, возможность выравнивания по маркерам при наложении литографических слоев для процессов типа step&repeat). Мультиплицирующие цифро-аналоговые преобразователи позволяют получать высокую точность  калибровки координат внутри поля экспонирования.

ELPHY Quantum – специально разработанный 16-битный аппаратный модуль, позволяющий работать на скоростях цифро-аналоговых преобразователей вплоть до 6 МГц. Модуль интегрирован в соответствующий последнему слову техники управляющий компьютер с программной средой Windows. 

Технология

• Raith

Программное обеспечение

Raith Nanosuite. Стандарт GDSII. Единый модуль дизайна CAD-объектов с привязкой к слоям, параметрам экспонирования, контроль позиционирования в системе координат образца, коррекция эффекта близости, литография в 3D, многопользовательский интерфейс

Технические характеристики